“两弹一星”元勋、中国科学院院士王希季同志送别仪式在京举行

来源:中国航天科技集团8月20日,中国共产党优秀党员,我国航天事业开拓者之一,著名空间技术专家,中国科学院院士,国家“两弹一星功勋奖章”获得者,中国航天科技集团有限公司科学技术委员会原顾问,五院技术顾问王希季同志送别仪式在北京八宝山殡仪馆举行。王希季同志因病医治无效,于2026年8月12日在北京逝世,享年105岁。上午9时,八宝山殡仪馆大礼堂庄严肃穆,哀乐低回。正厅上方悬挂着“沉痛悼念王希季同志”的黑底白字横幅,横幅下方是王希季同志的遗像。王希季同志安卧在鲜花翠柏丛中,身上覆盖着鲜红的中国共产党党旗。前来送别的人们胸戴白花,依次走入大厅,在他的遗体前肃立默哀,并深深三鞠躬,与这位为中国航天事业奋斗一生的老科学家作最后的告别,随后走到家属面前,低声表达慰问。王希季同志逝世后,蔡奇、丁薛祥、石泰峰、袁家军,胡锦涛、温家宝、俞正声、李岚清、曾庆红、吴官正、王岐山,张庆伟、…

“两弹一星”元勋、中国科学院院士王希季同志送别仪式在京举行

来源:中国航天科技集团8月20日,中国共产党优秀党员,我国航天事业开拓者之一,著名空间技术专家,中国科学院院士,国家“两弹一星功勋奖章”获得者,中国航天科技集团有限公司科学技术委员会原顾问,五院技术顾问王希季同志送别仪式在北京八宝山殡仪馆举行。王希季同志因病医治无效,于2026年8月12日在北京逝世,享年105岁。上午9时,八宝山殡仪馆大礼堂庄严肃穆,哀乐低回。正厅上方悬挂着“沉痛悼念王希季同志”的黑底白字横幅,横幅下方是王希季同志的遗像。王希季同志安卧在鲜花翠柏丛中,身上覆盖着鲜红的中国共产党党旗。前来送别的人们胸戴白花,依次走入大厅,在他的遗体前肃立默哀,并深深三鞠躬,与这位为中国航天事业奋斗一生的老科学家作最后的告别,随后走到家属面前,低声表达慰问。王希季同志逝世后,蔡奇、丁薛祥、石泰峰、袁家军,胡锦涛、温家宝、俞正声、李岚清、曾庆红、吴官正、王岐山,张庆伟、…

“两弹一星功勋奖章”获得者王希季逝世,享年105岁

中国共产党优秀党员,我国航天事业开拓者之一,著名空间技术专家,中国科学院院士,国家“两弹一星功勋奖章”获得者,中国航天科技集团有限公司科学技术委员会原顾问,中国空间技术研究院技术顾问王希季同志,因病医治无效,于2026年8月12日在北京逝世,享年105岁。王希季是“两弹一星”元勋。他的逝世,是我国航天事业的巨大损失,是五院的巨大损失。我们沉痛悼念、深切缅怀这位为中国航天事业奉献了一生的杰出科学家。国家需要建设,所以我们回来了1921年7月26日,王希季出生于云南昆明。1933年,他以会考总分第一的好成绩从高小毕业。之后,以入学考试总分第一的成绩考入中学。1937年,他又以入学考试总分第一的成绩,被昆华高级工业职业学校土木工程科录取。当时正值“七七事变”发生,全昆明新入学的高中生和大学生都要进行3个月的军事训练。在军训期间,抗击日寇、保家卫国的氛围深深感染着学生们。“国家兴亡,匹…

日媒:中国研发投资规模位居世界第一

来源:参考消息参考消息网8月8日报道 据《日本经济新闻》8月8日报道,中国企业和高校研发总投入超过美国,位居世界第一。日本文部科学省7日发布的“2026年科技指标”显示,中国2024年的研发投入同比增长13.1%,达到97.1万亿日元(100日元约合4.28元人民币);美国2024年研发投入为95.3万亿日元,同比增长6.7%;日本以22.1万亿日元位列第三,同比增长8.4%。“2026年科技指标”是由日本文部科学省科学技术与学术政策研究所每年发布的数据。该机构将主要国家的数据分为研发投入和研发人才等五大类,并使用约160项指标进行评估。“2026年科技指标”采用的是2024年的数据。2017年,中国发表的科研论文数量超过美国,位居世界第一。2018年,中国在被引次数排名前10%的高质量论文数量方面位居榜首;自2019年以来,在被引次数排名前1%的质量更高的论文数量方面,中国一直保持领先地位。报道称,此次,中国在研发总支出方面也超过…

日媒:中国研发投资规模位居世界第一

来源:参考消息参考消息网8月8日报道 据《日本经济新闻》8月8日报道,中国企业和高校研发总投入超过美国,位居世界第一。日本文部科学省7日发布的“2026年科技指标”显示,中国2024年的研发投入同比增长13.1%,达到97.1万亿日元(100日元约合4.28元人民币);美国2024年研发投入为95.3万亿日元,同比增长6.7%;日本以22.1万亿日元位列第三,同比增长8.4%。“2026年科技指标”是由日本文部科学省科学技术与学术政策研究所每年发布的数据。该机构将主要国家的数据分为研发投入和研发人才等五大类,并使用约160项指标进行评估。“2026年科技指标”采用的是2024年的数据。2017年,中国发表的科研论文数量超过美国,位居世界第一。2018年,中国在被引次数排名前10%的高质量论文数量方面位居榜首;自2019年以来,在被引次数排名前1%的质量更高的论文数量方面,中国一直保持领先地位。报道称,此次,中国在研发总支出方面也超过…

学习·知行丨“敦煌,我心向往之”

飞天翩跹穹宇,驼铃回响古道。敦煌,作为古代丝绸之路重镇,多元文明在此交汇。敦煌莫高窟是享誉世界的艺术宝库和文化殿堂,集建筑艺术、彩塑艺术、壁画艺术、佛教文化于一身,历史底蕴雄浑厚重,文化内涵博大精深。2019年8月19日,习近平总书记在甘肃考察调研时,首站便来到敦煌莫高窟。他强调,要十分珍惜祖先留给我们的这份珍贵文化遗产,坚持保护优先的理念,加强石窟建筑、彩绘、壁画的保护,运用先进科学技术提高保护水平,将这一世界文化遗产代代相传。坚持“保护、研究、弘扬”,如今的敦煌,以文化为魂、以科技为翼,千年壁画焕发新生,正成为世界文化遗产保护的典范。文案、制作:王彤、彭晓玲、邵兰鸣谢:敦煌研究院、中共敦煌市委宣传部资料来源:人民日报、新华社、央视新闻责任编辑:刘鹏林…

李强签署国务院令,公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》

国务院总理李强日前签署国务院令,公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》(以下简称《条例》),自2026年10月15日起施行。《条例》旨在保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成电路技术创新,促进科学技术发展。《条例》共6章54条,修订的主要内容如下。一是明确总体要求。规定集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署,扩展保护范围,强调诚实信用。二是完善申请、审查程序。规制虚假申请,细化材料要求,完善驳回、撤销程序,增加权利恢复程序。三是加强专有权保护。明确权利范围界定标准,加大侵权赔偿力度。四是促进布图设计运用。加强公共服务,明确奖酬措施,完善转让、许可、出质要求,规范共有人权利行使。集成电路布图设计保护条例(2001年4月2日中华人民共和国国务院令第300号公布 2026年7月23日中华人民共和国国务院令第842号修订)第一章 总则第一条 为了保护集成电路布图设计专有权,…

集成电路布图设计保护条例

来源:央视网  新华社北京8月3日电  集成电路布图设计保护条例  (2001年4月2日中华人民共和国国务院令第300号公布 2026年7月23日中华人民共和国国务院令第842号修订)  第一章 总则  第一条 为了保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成电路技术创新,促进科学技术发展,制定本条例。  第二条 集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署,提升我国集成电路布图设计创造、运用、保护、管理和服务水平。  第三条 本条例下列用语的含义:  (一)集成电路,是指以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;  (二)集成电路布图设计(以下简称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准…

李强签署国务院令,公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》

国务院总理李强日前签署国务院令,公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》(以下简称《条例》),自2026年10月15日起施行。《条例》旨在保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成电路技术创新,促进科学技术发展。《条例》共6章54条,修订的主要内容如下。一是明确总体要求。规定集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署,扩展保护范围,强调诚实信用。二是完善申请、审查程序。规制虚假申请,细化材料要求,完善驳回、撤销程序,增加权利恢复程序。三是加强专有权保护。明确权利范围界定标准,加大侵权赔偿力度。四是促进布图设计运用。加强公共服务,明确奖酬措施,完善转让、许可、出质要求,规范共有人权利行使。集成电路布图设计保护条例(2001年4月2日中华人民共和国国务院令第300号公布 2026年7月23日中华人民共和国国务院令第842号修订)第一章 总则第一条 为了保护集成电路布图设计专有权,…

集成电路布图设计保护条例

来源:央视网  新华社北京8月3日电  集成电路布图设计保护条例  (2001年4月2日中华人民共和国国务院令第300号公布 2026年7月23日中华人民共和国国务院令第842号修订)  第一章 总则  第一条 为了保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成电路技术创新,促进科学技术发展,制定本条例。  第二条 集成电路布图设计保护工作应当贯彻党和国家知识产权战略部署,提升我国集成电路布图设计创造、运用、保护、管理和服务水平。  第三条 本条例下列用语的含义:  (一)集成电路,是指以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品;  (二)集成电路布图设计(以下简称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准…


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